特許

J-GLOBAL ID：200903058956999140

植物栽培方法及びその装置

発明者： 住吉 久 ,  渡部 一夫 ,  太田 隆 ,  峠 博之
出願人/特許権者： 株式会社ニチレイ ,  株式会社東洋製作所
代理人 (1件)： 前田 清美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-269201
公開番号（公開出願番号）：特開平9-084470
出願日： 1995年09月22日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】植物栽培のための温度制御用の装置が小能力のもので事が足り、設備費及びランニングコストを低減せしめ、もって植物の栽培コストを低減せしめる。【解決手段】植物栽培用の鉢2を嵌入するための孔7を上板にあけた中空体よりなる支持台3を栽培室1内に設け、この支持台3内を空気調和機4等によって冷却または加温することにより、植物の根の部分だけをその植物の生長促進温度や花成誘導を惹き起こす温度等の所要の温度に制御する。

請求項（抜粋）：

植物の根の部分だけを所要の温度に冷却または加温することを特徴とする植物栽培方法。

IPC (2件)：

A01G 9/20 ,  A01G 9/24

FI (2件)：

A01G 9/20 A ,  A01G 9/24 V

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 植物の栽培装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-086507   出願人：西村工業株式会社