特許

J-GLOBAL ID：200903058968596202

電極処理方法及び電場処理装置

発明者： 伊東 昭典
出願人/特許権者： エル・エフ・ラボラトリー株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-056061
公開番号（公開出願番号）：特開2001-241824
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】弱い電圧で迅速に電場処理できる方法及び装置を提供する。【課題】 電場を印加する雰囲気の温度を平均温度線(l0、l5)の上下に揺らしながら、中空室を有する電極1,30,51を使用して電場処理する。

請求項（抜粋）：

電場を印加する雰囲気の温度を平均温度線の上下に揺らしながら、被処理物を解凍したり冷凍したり鮮度保持することを特徴とする電場処理方法。

IPC (6件)：

F25D 11/00 101 ,  A23L 3/32 ,  A23L 3/36 ,  A23L 3/365 ,  A47J 37/12 ,  F25D 11/02

FI (6件)：

F25D 11/00 101 Z ,  A23L 3/32 ,  A23L 3/36 Z ,  A23L 3/365 Z ,  A47J 37/12 ,  F25D 11/02 L

Fターム (19件)：

3L045AA02 ,  3L045BA03 ,  3L045BA05 ,  3L045CA03 ,  3L045CA06 ,  3L045DA02 ,  3L045EA01 ,  4B021LP10 ,  4B021LT03 ,  4B022LN10 ,  4B022LQ08 ,  4B022LT06 ,  4B022LT07 ,  4B059AA01 ,  4B059BB01 ,  4B059BG10 ,  4B059CA01 ,  4B059CA12 ,  4B059DA09