光学要素変形システム、光学要素の特定変形システム及び光学要素の特定変形方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田益稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-285772
公開番号（公開出願番号）：特開2002-189193
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】投射レンズ内の光学要素のイメージエラーを除去したり、能動的に調整する。【解決手段】イメージエラーを除去したり、能動的に調整するためのイメージング装置内の、特にマイクロリソグラフィー用途の投射レンズを有した投射露出マシン内の光学要素の特定変形システムにおいて、圧電素子3は変形される表面に薄板、薄膜または薄層状のアクチュエータとして付着されるか統合されている。センサ4を有したアダプトロニックサーボループと結合し、アクチュエータとしての圧電素子3の作動を制御することにより、光学要素に力及び/またはモーメントが加えられて光学要素を特定して変形させる。

請求項（抜粋）：

イメージエラー(image error)を除去するためのイメージング装置内の光学要素変形システム(optical element deformation system)において、光学要素(optical element)は前記光学要素の表面に薄板(thin plate)、薄膜(thin film)、または薄層状(thin layer)のアクチュエータとして付着されている圧電素子(piezoelectric elements)を内蔵しており、力(force)及び/またはモーメント(moment)が少なくとも1つのセンサを有したサーボループ(servo loop)と結合し、またアクチュエータとしての前記圧電素子の作動(activation of thepiezoelectric element)を制御することにより、前記光学要素上に加えられ前記光学要素を変形させる光学要素変形システム。

IPC (5件)：

G02B 27/18 , G02B 5/10 , G02B 13/24 , G02B 26/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 27/18 Z , G02B 5/10 B , G02B 13/24 , G02B 26/00 , H01L 21/30 515 D

Fターム (16件)：

2H041AA12 , 2H041AB14 , 2H041AB38 , 2H041AC08 , 2H041AZ01 , 2H041AZ05 , 2H042DD13 , 2H042DE00 , 2H087KA21 , 2H087NA09 , 2H087RA27 , 5F046BA03 , 5F046CB02 , 5F046CB12 , 5F046CB25 , 5F046DA12

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