特許

J-GLOBAL ID：200903058991568348

基板処理装置

発明者： 宮 勝彦 ,  朝来野 香
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089692
公開番号（公開出願番号）：特開2002-282764
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：

【要約】【課題】 回転基台または雰囲気遮断板から飛散した処理液を効率良く回収してその跳ね返りを防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wは、チャックピン14を介してスピンベース10上に水平姿勢にて保持されている。スピンベース10の上方には雰囲気遮断板30が設けられている。雰囲気遮断板30を基板Wに近接させて基板Wを回転させつつ、その下面から処理液や窒素ガス等を供給して洗浄や乾燥等の処理を行う。基板Wから飛散した処理液はスプラッシュガード50の回収ポート57によって回収される。一方、スピンベース10上を流れる薬液は案内部60から飛散する。案内部60は、スピンベース10の上面10aと面一となる面62を有するとともに、回収ポート57に対向する尖鋭形状の尖端部61を備えているため、スピンベース10から飛散する薬液が正確に回収ポート57に向かう。

請求項（抜粋）：

基板を水平面内にて回転させつつ処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、基板を略水平姿勢にて保持する回転基台と、前記回転基台に保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる第1回転手段と、前記回転基台によって保持された基板の周囲を取り囲むように設けられ、前記回転手段によって回転される基板から飛散する処理液を受け止める受け止め部を有し、前記受け止め部によって受け止められた処理液を所定の排液口に導く飛散防止手段と、前記回転基台よりも上方に配置され、前記回転基台によって保持された基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、前記雰囲気遮断板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる第2回転手段と、前記回転基台によって保持された基板に処理液を供給する処理液供給手段と、を備え、前記処理液供給手段から供給された処理液のうち前記回転基台および/または前記雰囲気遮断板から飛散する処理液の飛散方向を前記受け止め部へと向ける案内部を前記回転基台および/または前記雰囲気遮断板の周縁部に設けることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304 643

FI (3件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 643 A

Fターム (18件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA08 ,  4F042AA10 ,  4F042CC07 ,  4F042EB09 ,  4F042EB23