特許
J-GLOBAL ID：200903058992080250
固体撮像装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340219
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188402
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】本発明は、エッチング処理を不要とし、層間絶縁層との密着性が良くして膜剥がれや段差部での光透過を生じさせない。【構成】基板(10)に感光部等の各拡散層(11 〜15) を形成するとともにこれら拡散層上にゲート酸化膜(16)を形成し、このゲート酸化膜(16)上に多結晶シリコンにより複数の電極(17)を形成して層間絶縁層(18)により覆い、かつ電極(17)上方の層間絶縁層(18)上に光遮蔽膜(19)を形成した固体撮像装置において、電極(17)上方の層間絶縁層(18)と光遮蔽膜(19)との間に遮光膜ベース層として光遮蔽膜(19)との密着性の高いpoly-Si層(30)を形成してある。
請求項（抜粋）：
基板に形成された感光部と成る各拡散層と、これら拡散層上に形成されたゲート酸化膜と、このゲート酸化膜上に多結晶シリコンにより形成された複数の電極と、これら電極を覆う層間絶縁層と、この層間絶縁層上における前記電極上方に形成された光遮蔽膜と、前記電極上方の前記層間絶縁層と前記光遮蔽膜との間に形成され前記光遮蔽膜と密着する遮光膜ベース層とから成ることを特徴とする固体撮像装置。
IPC (2件)：
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