特許
J-GLOBAL ID：200903058994203944
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047521
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263299
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 本発明は荷電粒子ビーム露光方法及びその装置に関し、BAAマスクの各開口を通って試料に照射される荷電粒子ビーム強度を均一にでき、精度良くパターンを描画できることを目的とする。【構成】 BAAマスクの複数の開口を所定数を1単位としてオンとするステップS40と、試料上に到達する電子ビームの強度を検出するステップS50と、検出された荷電粒子ビーム強度に応じて1単位の開口の駆動手段のオン制御時に与えるオフセット電圧を算出するステップS60とを有し、BAAマスクの複数の開口を通して試料上に到達する荷電粒子ビームの強度を1単位毎に略同一とすることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
請求項（抜粋）：
試料が搭載されたステージを第1の方向に連続的に移動させながら、BAAマスク上の複数の開口夫々に対応した駆動手段によりオンオフ制御して複数の荷電粒子ビームを全体として所望のビーム形状となるように制御し、かつ上記荷電粒子ビームを偏向して試料上にパターンを描画するマルチビーム方式の荷電粒子ビーム露光方法において、上記BAAマスクの複数の開口を所定数を1単位としてオンとするステップ(S40)と、試料上に到達する電子ビームの強度を検出するステップ(S50)と、上記検出された荷電粒子ビーム強度に応じて上記1単位の開口の駆動手段のオン制御時に与えるオフセット電圧を算出するステップ(S60)とを有し、上記BAAマスクの複数の開口を通して試料上に到達する荷電粒子ビームの強度を上記1単位毎に略同一とすることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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