特許

J-GLOBAL ID：200903058996988183

周辺露光装置及び方法

発明者： 加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107281
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299273
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】、400nm以下の露光光を用いて大型基板へ周辺露光を行う場合であっても、容易でかつ安価で、かつコストをかけずにスループットを向上させ、感光性材料が不均一な膜厚に対応する。【解決手段】角型基板に塗布された感光性材料上の所定の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対して露光光を照射する周辺露光装置は、露光光を供給する光源と;該光源からの露光光を基板へ向ける照明光学系と;を有する。そして、照明光学系は、基板上に第1照射領域を形成する第1部分照明系と、基板上で第1照射領域と離れた第2照射領域を形成する第2部分照明系とを備え、第1及び第2照射領域は互いに大きさが異なり、第1及び第2照射領域の一部は基板上で重畳して露光されるものである。

請求項（抜粋）：

角型基板に塗布された感光性材料上の所定の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対して露光光を照射する周辺露光装置であって、露光光を供給する光源と、該光源からの露光光を前記基板へ向ける照明光学系とを有し、前記照明光学系は、前記基板上に第1照射領域を形成する第1部分照明系と、前記基板上で前記第1照射領域と離れた第2照射領域を形成する第2部分照明系とを備え、前記第1及び第2照射領域は互いに大きさが異なり、前記第1及び第2照射領域の一部は前記基板上で重畳して露光されることを特徴とする周辺露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501

FI (4件)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 577

Fターム (23件)：

2H097AA02 ,  2H097AA04 ,  2H097AA08 ,  2H097BB01 ,  2H097CA06 ,  2H097CA12 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA05 ,  5F046AA06 ,  5F046CA01 ,  5F046CA07 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06 ,  5F046CC15 ,  5F046DA02 ,  5F046DA03 ,  5F046DA30 ,  5F046DB01