特許
J-GLOBAL ID：200903059006944396
微細パタン形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-251252
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096808
出願日： 1996年09月24日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：
【要約】【課題】型を押しつけるプリント技術で、1μm以下の金属パタンを簡便に、かつ、再現性良く形成できる技術を提供することを目的とする。【解決手段】表面が金属からなる物体23に、表面に1μm以下の微細なパタンを含むパタン状の凹凸を有する物体22を密着させて加圧することにより、前記金属表面に該パタン状凹凸を形成することを特徴とする微細パタン形成法。
請求項（抜粋）：
表面が金属からなる物体に、表面に1μm以下の微細なパタンを含むパタン状の凹凸を有する物体を密着させて加圧することにより、前記金属表面に該パタン状凹凸を形成することを特徴とする微細パタン形成法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, G02B 5/30
, H01L 21/3205
G02B 5/18
, G02B 5/30
, H01L 21/88 A
