特許
J-GLOBAL ID:200903059016679879
基板処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-312301
公開番号(公開出願番号):特開2005-085773
出願日: 2003年09月04日
公開日(公表日): 2005年03月31日
要約:
【課題】スリットノズルに接触する対象物の検出精度の低下を防止する。【解決手段】基板処理装置において、スリットノズルと接触する対象物を検出する検出センサー450,451,452を設ける。各検出センサー450,451,452のレーザー光をY軸方向にずらした位置で絞るように設定する。これにより、各検出センサー450,451,452の有効検出範囲E1ないしE3が、スリットノズルの走査範囲E0を分担して検査する。各検出センサー450,451,452の検出結果に基づいて、いずれかの検出センサー450,451,450において対象物が検出された場合に、スリットノズルの移動を停止して、警告を表示する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基板に所定の処理液を塗布する基板処理装置であって、
基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記基板に対して所定の処理液を吐出する吐出手段と、
前記保持手段に保持された前記基板と前記吐出手段とを相対的に移動させ、前記基板に対する前記吐出手段による走査を実行させる移動手段と、
前記基板上に対する前記吐出手段による走査範囲に対して規定されたそれぞれの有効検出範囲に存在する対象物を検出する複数の検出手段と、
前記複数の検出手段による検出結果に基づいて、前記移動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記吐出手段による走査中に前記吐出手段と干渉する対象物を、前記それぞれの有効検出範囲によって分担して検出することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件):
H01L21/027
, B05C5/02
, B05C11/00
, G03F7/16
FI (4件):
H01L21/30 564Z
, B05C5/02
, B05C11/00
, G03F7/16 501
Fターム (42件):
2H025AA18
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025EA04
, 4D075AC02
, 4D075AC73
, 4D075AC88
, 4D075AC93
, 4D075AC97
, 4D075CA47
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DC19
, 4D075DC22
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA45
, 4F041AA02
, 4F041AA06
, 4F041AB01
, 4F041BA05
, 4F041BA34
, 4F041BA56
, 4F041CA02
, 4F041CA16
, 4F041CA22
, 4F042AA02
, 4F042AA07
, 4F042AB00
, 4F042BA04
, 4F042BA08
, 4F042BA22
, 4F042BA25
, 4F042BA27
, 4F042DF01
, 4F042DH09
, 5F046JA01
, 5F046JA21
, 5F046JA27
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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