特許
J-GLOBAL ID:200903059017480952
加熱装置及び画像形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤岡 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-073258
公開番号(公開出願番号):特開2002-278350
出願日: 2001年03月15日
公開日(公表日): 2002年09月27日
要約:
【要約】【課題】 装置の省電力化、ウエイトタイムの短縮化を図りつつ、記録材上の画像に対して均一な加熱処理を施し高画質な画像を得ることができる加熱装置及びこの加熱装置を備える画像形成装置を提供する。【解決手段】 定着フィルム1は加熱処理時における回転速度が複数設定され、マイコン603は、定着フィルム1及び加圧ローラ3のそれぞれの回転速度に対応して、加熱開始から目標温度到達までの昇温時におけるPID制御による操作量のパラメータと、目標温度到達後の温調時におけるPID制御による操作量のパラメータとがそれぞれ設定されている。
請求項(抜粋):
電源からの電力を受けて交番磁界を発生する磁界発生手段と、該交番磁界中に配されて電磁誘導発熱する回転可能な発熱部材と、該発熱部材に圧接してニップ領域を形成し回転する加圧部材と、上記発熱部材の温度を検知する温度検知手段と、該温度検知手段によって検知された温度に基づき上記発熱部材の温度を所定の目標温度に維持するよう上記電源から上記磁界発生手段への電力供給をPID制御する制御手段とを備え、画像を担持する記録材を上記ニップ領域に通紙して加圧しながら加熱処理する加熱装置において、発熱部材及び加圧部材は加熱処理時における回転速度が複数設定され、制御手段は、上記発熱部材及び上記加圧部材のそれぞれの回転速度に対応して、加熱開始から目標温度到達までの昇温時におけるPID制御による操作量のパラメータと、目標温度到達後の温調時におけるPID制御による操作量のパラメータとがそれぞれ設定されていることを特徴とする加熱装置。
IPC (3件):
G03G 15/20 109
, H05B 6/06 393
, H05B 6/14
FI (3件):
G03G 15/20 109
, H05B 6/06 393
, H05B 6/14
Fターム (21件):
2H033AA03
, 2H033AA30
, 2H033AA32
, 2H033BA25
, 2H033BB18
, 2H033BE03
, 2H033BE06
, 2H033CA03
, 2H033CA04
, 2H033CA07
, 2H033CA13
, 2H033CA28
, 2H033CA30
, 3K059AA18
, 3K059AC33
, 3K059AD07
, 3K059BD01
, 3K059BD04
, 3K059BD05
, 3K059CD04
, 3K059CD07
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