特許
J-GLOBAL ID：200903059017959883
インクジェット式記録ヘッドの製造方法及びインクジェット式記録ヘッド、インクジェット式記録装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 坊野 康博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-076375
公開番号（公開出願番号）：特開2009-226794
出願日： 2008年03月24日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】基板同士の貼り合わせが不要で、接着剤によるノズル開口部の塞がりを防止できるようにしたインクジェット式記録ヘッドの製造方法及びインクジェット式記録ヘッド、インクジェット式記録装置を提供する。【解決手段】ドライバ回路3を有する基板1の表面側に流路形成膜10を形成する工程と、流路形成膜10に溝部を形成する工程と、溝部に犠牲膜を充填する工程と、犠牲膜及び流路形成膜10上に振動膜30を形成する工程と、振動膜30をエッチングして犠牲膜を底面とする貫通孔hを形成する工程と、基板1を裏面側からエッチングしてリザーバ5を形成する工程と、流路形成膜10をエッチングしてノズル開口部22を形成する工程と、リザーバ5及び貫通孔hを介して犠牲膜をエッチングし除去する工程と、振動膜30上に圧電素子50を形成して貫通孔hを塞ぐ工程と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
外部からインク液の供給を受けるリザーバと、前記リザーバに連通する圧力発生室と、前記圧力発生室に連通するノズル開口部と、を備えるインクジェット式記録ヘッドの製造方法であって、
集積回路を有する基板の一方の面側に流路形成膜を形成する工程と、
前記流路形成膜に溝部を形成する工程と、
前記溝部に犠牲膜を充填する工程と、
前記犠牲膜及び前記流路形成膜上に振動膜を形成する工程と、
前記振動膜をエッチングして前記犠牲膜を底面とする貫通孔を形成する工程と、
前記基板を他方の面側から前記犠牲膜が露出するまでエッチングして前記リザーバを形成する工程と、
前記流路形成膜をエッチングして前記ノズル開口部を形成する工程と、
前記リザーバ及び前記貫通孔を介して前記犠牲膜を除去する工程と、
前記犠牲膜を除去する工程の後で、前記振動膜上に圧電素子を形成して前記貫通孔を塞ぐ工程と、を含むことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
IPC (3件)：
B41J 2/16
, B41J 2/045
, B41J 2/055
B41J3/04 103H
, B41J3/04 103A
2C057AF93
, 2C057AK07
, 2C057AP02
, 2C057AP31
, 2C057AP33
, 2C057AP51
, 2C057AP53
, 2C057BA05
, 2C057BA14
