特許
J-GLOBAL ID:200903059030040406

処理剤溶解装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-037638
公開番号(公開出願番号):特開2001-224942
出願日: 2000年02月16日
公開日(公表日): 2001年08月21日
要約:
【要約】【課題】 処理剤の溶解時間が短く、かつ所定の希釈濃度の処理液を安定的に生成する。【解決手段】 溶解槽104の形状と、ボトル装填位置A、B、パドル126Aの位置Cの相対位置関係を、パドル126Aの回転に起因する水流の方向に対して、パドル126A、処理剤の落下位置、角部Dとすることが必要であることは明確であり、幾何学的なバランスのとれた配置や、デザインを重視した配置のような単純な設計事項ではなく、処理剤の滞留防止という目的をもった構造とすることで、希釈濃率の安定した処理剤溶解装置を得ることができる。
請求項(抜粋):
溶解槽内にてその一内側壁部分に寄った略鉛直の回転中心をもって回転する攪拌羽根により、液体と粉体状又は顆粒状の処理剤とを攪拌して処理液を生成する装置において、前記攪拌羽根の回転により発生する溶解槽内の略水平方向の処理液が、攪拌羽根、処理剤の落下位置、及び液流に沿う形状に成形した溶解槽の側壁部分の順に流動するように、前記攪拌羽根、処理剤の落下位置、及び液流に沿う形状に成形した溶解槽の側壁部分を配置したことを特徴とする処理剤溶解装置。
IPC (2件):
B01F 7/16 ,  G03D 3/06
FI (2件):
B01F 7/16 J ,  G03D 3/06 Z
Fターム (10件):
2H098BA10 ,  2H098BA15 ,  2H098EA06 ,  4G078AA01 ,  4G078AB05 ,  4G078BA05 ,  4G078CA01 ,  4G078CA05 ,  4G078CA12 ,  4G078DA01

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