特許

J-GLOBAL ID：200903059030426100

洗浄システム,洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 広城 幸吉 ,  北原 重徳
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-207065
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040531
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 排液機構を簡素化できる洗浄システムと,面荒れを極力抑えながら被処理体の表面に付着したパーティクルを効果的に除去できる,洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】 洗浄液中にウェハWを浸漬させて洗浄する洗浄装置12〜17を備えた洗浄システム1において,洗浄装置12〜17で用いられる洗浄液をいずれも中性若しくは酸性とした。また,洗浄装置12において,洗浄槽62に充填される洗浄液を過酸化水素水とした。

請求項（抜粋）：

洗浄液中に被処理体を接触させて洗浄する洗浄装置を1又は2以上備えた洗浄システムにおいて,前記洗浄装置で用いられる洗浄液をいずれも中性若しくは酸性としたことを特徴する洗浄システム。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 L