新規なシリコーン粉体処理剤及びそれを用いて表面処理された粉体、並びにこの粉体を含有する化粧料

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝田清暉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-185999
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072891
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】一般の化粧料に使用される油剤との親和性が良く、粉体に優れた乳化能力を与える新規な粉体処理剤、該処理剤によって表面処理された粉体、該粉体を配合してなる化粧料の提供。【解決手段】下記式1で表されるシリコーン粉体処理剤。R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 1-CdH2d-O-(C2H4O)e(C3H6O)fR4 21式中R1はC1〜30のアルキル、アリール、アラルキル又はフッ素置換アルキル基、式2で表せる基(式2中R4はアルキル基等)R2はH、ヒドロキシ基、C1〜6のアルコキシ基等、R3は式3で表せる基、a〜f、x、yは、1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5、0≦d≦15、0≦e≦50、0≦f≦50、1≦x≦5、0≦y≦500。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるシリコーン粉体処理剤; R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 (1)但し、(1)式中のR1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はフッ素置換アルキル基あるいは下記一般式(2) -CdH2d-O-(C2H4O)e(C3H6O)fR4 (2)で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基であって、R4は炭素数4〜30の炭化水素基又はR5-(CO)-で表される有機基、R5は炭素数1〜30の炭化水素基である。R2は水素原子あるいはヒドロキシ基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基から選択される反応性置換基であり、炭素、酸素あるいは珪素原子を介して結合していても良い置換基である。R3は下記一般式(3)で表されるシリコーン化合物残基であり、a、b、cはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5である。また、d、e、fはそれぞれ0≦d≦15、0≦e≦50、0≦f≦50の整数である。xは1≦x≦5の整数であり、yは0≦y≦500の整数である。

IPC (14件)：

C09C 3/12 , A61K 7/00 , A61K 7/02 , A61K 7/06 , A61K 7/32 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , C01B 33/42 , C01G 9/02 , C01G 23/04 , C09C 1/00 , C09C 1/04 , C09C 1/36 , C09C 1/40

FI (21件)：

C09C 3/12 , A61K 7/00 A , A61K 7/00 J , A61K 7/00 N , A61K 7/00 C , A61K 7/00 Q , A61K 7/00 R , A61K 7/00 L , A61K 7/00 S , A61K 7/02 , A61K 7/06 , A61K 7/32 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , C01B 33/42 , C01G 9/02 Z , C01G 23/04 Z , C09C 1/00 , C09C 1/04 , C09C 1/36 , C09C 1/40

前のページに戻る