特許
J-GLOBAL ID：200903059053292313
電子材料の洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-086566
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277007
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】水素ガス又は酸素ガスを含有する余剰の洗浄水又は洗浄排水から、溶存ガスを高度に除去して、超純水と同等の水質まで改質し、洗浄やリンスに再利用することができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】純水に水素ガス又は酸素ガスを溶解して調製した洗浄水を、洗浄装置に移送して電子材料を洗浄するに際して、洗浄に使用されなかった洗浄水又は洗浄装置から排出される洗浄排水に、水素ガス又は酸素ガスと反応して水又は不活性ガスを生成する物質を供給し、触媒と接触させることにより、水素ガス又は酸素ガスを除去したのち、回収、再利用することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
純水に水素ガス又は酸素ガスを溶解して調製した洗浄水を、洗浄装置に移送して電子材料を洗浄するに際して、洗浄に使用されなかった洗浄水又は洗浄装置から排出される洗浄排水に、水素ガス又は酸素ガスと反応して水又は不活性ガスを生成する物質を供給し、触媒と接触させることにより、水素ガス又は酸素ガスを除去したのち、回収、再利用することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B 3/08
, B01J 31/08
, C02F 1/70
, C02F 1/72
, H01L 21/304 647
B08B 3/08 Z
, B01J 31/08 M
, C02F 1/70 Z
, C02F 1/72 Z
, H01L 21/304 647 Z
