光学素子の洗浄装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-008875
公開番号（公開出願番号）：特開2004-216321
出願日： 2003年01月16日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】光洗浄では除去できない有機物汚染を効果的にしかも短時間で処理できるプラズマを用いた光学素子の洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】被洗浄物を収納する処理室と、前記処理室を減圧又は真空環境に維持する排気部と、酸素を含むガスを前記処理室に供給するためのガス供給部と、前記ガスをマイクロ波を利用してプラズマ化するためのプラズマ化手段とを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することによって前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被洗浄物を収納する処理室と、前記処理室を減圧又は真空環境に維持する排気部と、酸素を含むガスを前記処理室に供給するためのガス供給部と、前記ガスを高周波電力を利用してプラズマ化するためのプラズマ化手段とを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することによって前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B7/00 , C03C23/00 , H01L21/027 , H05H1/46

FI (4件)：

B08B7/00 , C03C23/00 A , H05H1/46 M , H01L21/30 515D

Fターム (9件)：

3B116AA01 , 3B116AB01 , 3B116BC01 , 3B116CD11 , 4G059AA11 , 4G059AC30 , 5F046CB02 , 5F046CB07 , 5F046CB12

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-001534
特開昭48-072971
光学素子の洗浄方法および洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-321351 出願人：キヤノン株式会社

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