特許
J-GLOBAL ID：200903059064285599

パターン形成体

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084714
公開番号（公開出願番号）：特開2001-270024
出願日： 2000年03月22日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、エネルギーの照射による濡れ性の異なる部位からなるパターンを効率よく形成したパターン形成体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基板と、この基板上に設けられ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であり、かつ少なくとも光触媒、エネルギー照射された際の上記液体との接触角の低下速度を向上させる第2の成分としての金属元素、およびバインダを含有する光触媒含有層とを有し、上記光触媒含有層表面に濡れ性の異なる部位からなるパターンを有していることを特徴とするパターン形成体を提供することにより上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上に設けられ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であり、かつ少なくとも光触媒、エネルギー照射された際の前記液体との接触角の低下速度を向上させる第2の成分としての金属元素、およびバインダを含有する光触媒含有層とを有し、前記光触媒含有層表面に濡れ性の異なる部位からなるパターンを有していることを特徴とするパターン形成体。
IPC (7件)：
B32B 9/00 ,  B01J 23/745 ,  B01J 35/02 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 521
FI (7件)：
B32B 9/00 A ,  B01J 35/02 J ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 521 ,  B01J 23/74 301 M
Fターム (63件)：
2H025AA01 ,  2H025AB03 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  4F100AA05B ,  4F100AA21B ,  4F100AG00A ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JL08B ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC25A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC54A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC68A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069BE02A ,  4G069BE05A ,  4G069BE14A ,  4G069CB25 ,  4G069CB35 ,  4G069DA05 ,  4G069EA07 ,  4G069ED01 ,  4G069ED02 ,  4G069FA01 ,  4G069FC05 ,  4G069FC08
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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