特許
J-GLOBAL ID：200903059065333945
有機物含有排水の紫外線照射による処理方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-064038
公開番号（公開出願番号）：特開平6-269773
出願日： 1993年03月23日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】 たとえば半導体や液晶工場における排水等のように、有機物を低濃度含有する排水を紫外線によって処理するための処理方法とその装置に関し、過酸化水素の不用意な分解を防止し、その有効利用を図ることを目的とする。【構成】 有機物含有排水を原水として紫外線照射処理装置に通水し、紫外線を照射するとともに酸化剤を注入して前記排水中の有機物を分解処理する処理方法,装置において、紫外線照射処理装置の原水入口部を含む複数個所から酸化剤を注入して処理することにある。
請求項（抜粋）：
有機物含有排水を原水として紫外線照射処理装置に通水し、紫外線を照射するとともに酸化剤を注入して前記含有水中の有機物を分解処理する処理方法において、前記紫外線照射処理装置の原水入口部を含む複数個所から酸化剤を注入して処理することを特徴とする有機物含有排水の紫外線照射による処理方法。
IPC (3件)：
C02F 1/32 ZAB
, C02F 1/72 ZAB
, C02F 1/72 101
