特許

J-GLOBAL ID：200903059065680572

ポジ型レジスト組成物

発明者： 林 宏 ,  林 敦 ,  河田 正司
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187830
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029977
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】 感度・解像度・残膜率を損なうことなくハレーション防止ができるポジ型感光性組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)、及び下記一般式(I)で表されるジベンジリデンアセトン骨格を有する化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(b)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R10は互いに同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アセチル基、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基であり、少なくともひとつは水酸基である。R11〜R12は互いに同一または異なってもよく、水素原子、アルキル基、アリール基である。)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)、及び下記一般式(I)で表されるジベンジリデンアセトン骨格を有する化合物の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル(b)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R10は互いに同一または異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アセチル基、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基であり、少なくともひとつは水酸基である。R11〜R12は互いに同一または異なってもよく、水素原子、アルキル基、アリール基である。)

IPC (4件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027