特許
J-GLOBAL ID:200903059069595677

分離膜モジュールの洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-237475
公開番号(公開出願番号):特開平9-075689
出願日: 1995年09月14日
公開日(公表日): 1997年03月25日
要約:
【要約】【課題】 分離膜モジュールを被処理液槽内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過し、このろ過により閉塞した分離膜モジュールを洗浄する方法において、分離膜モジュールの移動を必要とせず、少量の薬液で洗浄可能な分離膜モジュールの洗浄方法を提供する。【解決手段】 分離膜モジュール4を被処理液槽2内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過するろ過装置において、その被処理液槽2内の被処理液を排出した後、分離膜モジュール4のろ液側から、薬液を通液することにより、この分離膜モジュール4の洗浄を行う。
請求項(抜粋):
分離膜モジュールを被処理液槽内に浸漬し、ろ液側から吸引して、被処理液をろ過し、このろ過により閉塞した分離膜モジュールを洗浄する方法であって、被処理液槽内の被処理液を排出した後、分離膜モジュールのろ液側から、薬液を通液することにより分離膜モジュールの洗浄を行うことを特徴とする分離膜モジュールの洗浄方法。
IPC (2件):
B01D 65/06 ,  C02F 1/44
FI (2件):
B01D 65/06 ,  C02F 1/44 K
引用特許:
審査官引用 (4件)
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