特許
J-GLOBAL ID:200903059079554952
高周波加熱装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
佐々木 宗治 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-275636
公開番号(公開出願番号):特開平10-122573
出願日: 1996年10月18日
公開日(公表日): 1998年05月15日
要約:
【要約】【課題】 加熱室の内容積を小さくすることなく、任意形状の被加熱物を均一に加熱できて、加熱むら及び解凍むらを少なくできるようにする。【解決手段】 加熱室1の壁面2dに、加熱室1の中心下部に対向させ、加熱室底面との角度が45度以上になるように平面反射面51を設け、給電口4から送出される高周波30を加熱室1の中心下部へ反射させるようにする。
請求項(抜粋):
被加熱物を収容する加熱室と、該加熱室に設けられ高周波を送出する給電口と、該加熱室の壁面に、該加熱室の中心下部に対向させ、該加熱室底面との角度が45度以上になるように形成され、該給電口から送出される高周波を該加熱室の中心下部へ反射させる平面反射面と、を備えたことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (2件):
F24C 7/02 511
, H05B 6/64
FI (2件):
F24C 7/02 511 C
, H05B 6/64 D
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭64-002292
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電子レンジ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-042873
出願人:株式会社東芝
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特開昭62-128476
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