特許
J-GLOBAL ID：200903059096679971
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-027211
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207057
出願日： 1997年01月27日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】現像時の基板との密着性と耐メッキ液性が良好である上に、メッキ液による濡れ性、アルカリ現像液よる現像性、レジスト未露光部の基板からの剥離性に優れ、バンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適するポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性のノボラック樹脂100重量部に対して、(B)アルコール性水酸基を有するラジカル重合性化合物単位10〜80重量%、カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物単位および/またはフェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物単位3〜50重量%を構成単位として含むアルカリ可溶性のアクリル樹脂5〜50重量部、(C)キノンジアジド基含有化合物5〜100重量部、および(D)溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性のノボラック樹脂100重量部に対して、(B)アルコール性水酸基を有するラジカル重合性化合物単位10〜80重量%、カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物単位および/またはフェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物単位3〜50重量%を構成単位として含むアルカリ可溶性のアクリル樹脂5〜50重量部(C)キノンジアジド基含有化合物5〜100重量部、および(D)溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/023 511
, G03F 7/004 501
, G03F 7/022
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/023 511
, G03F 7/004 501
, G03F 7/022
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
