特許

J-GLOBAL ID：200903059096884214

薄膜形成材、及び薄膜の形成方法

発明者： 宮澤 良和 ,  青木 智則
出願人/特許権者： キヤノン株式会社 ,  株式会社オプトロン
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-298807
公開番号（公開出願番号）：特開平10-193489
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 基材上に、簡易に且つ高品質の薄膜を得ることを目的とする。【解決手段】 常温硬化性物質からなる多孔質材に、有機シリコーンやパーフルオロアルキル基を持つ有機物の撥水性物質を含浸させ、それを真空中で蒸発させることによって、防汚・防水性を必要とする基材上に撥水薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

常温硬化性物質からなる多孔質材に、薄膜形成物質を保持させた薄膜形成材。

IPC (6件)：

B32B 5/18 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/30 ,  C23C 14/08 ,  G02B 1/10 ,  G09F 9/30 312

FI (6件)：

B32B 5/18 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/30 D ,  C23C 14/08 N ,  G09F 9/30 312 Z ,  G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-053181