特許
J-GLOBAL ID：200903059117695921
クリーン洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235043
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084872
出願日： 1992年09月03日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明は,半導体製造装置用治具等を自動洗浄するクリーン洗浄装置に関し,被洗浄物の洗浄を常時効果的に行うため,洗浄にともなう装置の汚れをなくし,薬品の汚れが蓄積しないクリーン洗浄装置を目的とする。【構成】 排気気流調整用のフレキシブルシャッタ1と, マルチ洗浄槽5内壁の水洗ノズル2と, 洗浄液9の清浄度維持用の循環濾過装置3と,該洗浄液9加熱用のラインヒータ4と, 洗浄, 水洗, 乾燥の少なくとも二つ以上の工程を行うマルチ洗浄槽5とを備え, 半導体デバイス製造用治具を自動的に洗浄する機能を有するように構成する。
請求項（抜粋）：
排気気流調整用のフレキシブルシャッタ(1) と, マルチ洗浄槽(5) 内壁の水洗ノズル(2) と, 洗浄液(9) の清浄度維持用の循環濾過装置(3)と該洗浄液(9) 加熱用のラインヒータ(4) と, 洗浄, 水洗, 乾燥の少なくとも二つ以上の工程を行うマルチ洗浄槽(5) とを備え, 半導体デバイス製造用治具を自動的に洗浄する機能を有することを特徴とするクリーン洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/04
