特許

J-GLOBAL ID：200903059118895797

膜質改質方法および膜質改質用光源

発明者： 嶋 利之 ,  山口 明康 ,  鈴木 信二
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-171088
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080435
出願日： 1996年07月01日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 短時間で処理を行うことができ、また、不所望な部分の改質が行われることがない膜質改質方法および膜質改質用光源を提供すること。【解決手段】 水銀もしくはカドミウム放電灯からなるランプ10が放射する波長200〜300nmの紫外光は楕円集光鏡11で集光され、第1反射鏡12、インテグレータレンズ13、シャッタ14、第2反射鏡17、コリメータレンズ16を介して平行にマスクMに入射し、マスクを通してワークW上に照射されワークWの改質が行われる。マスクMとワークWに入射する紫外光の視角αとマスクMとワークW間に形成させた酸素を含む気体層の厚さdと、ワークW上の改質する領域の最小単位の幅Wはα>1.5°かつd×tan α≦0.1W(d≠0)に設定されている。このため、光の回り込みを防止することができる。

請求項（抜粋）：

マスクとワークを近接して配置し、マスクとワークとの間に酸素を含む気体層を形成させた状態で紫外光をマスクを通して上記マスクとワークに略垂直に照射し、ワーク上の膜質を改質する膜質改質方法において、上記紫外光を平行光とするとともに、上記紫外光の視角をα、上記気体層の厚さをd、上記ワーク上の改質する領域の最小単位の幅をWとしたとき、α>1.5°かつd×tanα≦0.1W (d≠0)としたことを特徴とする膜質改質方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• メタルハライドランプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-337915   出願人：岩崎電気株式会社
• メタルハライドランプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-165657   出願人：松下電子工業株式会社
• 特公平1-021586