特許

J-GLOBAL ID：200903059127874719

シリル化ポリメチルシルセスキオキサン、その製造方法、それを用いた組成物

発明者： 伊藤 真樹 ,  須藤 通孝 ,  斉藤 章人
出願人/特許権者： ダウ コーニング アジア株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-039473
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237174
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 保存安定性、柔軟性、熱安定が良く、かつポリオルガノシロキサン等のポリマーとの架橋性等の機能性を有するポリメチルシルセスキオキサン、その製法、その組成物を提供する。【解決手段】 ポリスチレン換算分子量Mが380〜2000で、式:〔CH3SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m (m,nは上記分子量を与える正の数で、0.034(M×10-3)≦m/(m+n)≦0.152/(M×10-3)+0.10〕で示されるポリメチルシルセスキオキサンのシラノール基を架橋性炭素-炭素二重結合を有するシリル基含有化合物でシリル化して得られ、残留シラノール基がSi原子あたり0.12以下のシリル化ポリメチルシルセスキオキサン。これとポリオルガノシロキサンとの組成物。

請求項（抜粋）：

ポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が380から2000の範囲にあり、式〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m〔m,nは上記分子量を与える正の数で、m/(m+n)の値は図1のA領域にある。このA領域は、横軸が1/(Mn×10-3)、縦軸がm/(m+n)で表される図1のグラフにおいて、次の式1〜4で表される各直線によって囲まれる領域であり、各直線上も含み、また各直線の交点も含むものである。(式1):m/(m+n)=0.152/Mn×10-3)+0.10(式2):1/(Mn×10-3)=1000/2000(式3):1/(Mn×10-3)=1000/380(式4):m/(m+n)=0.034/(Mn×10-3)〕で示されるポリメチルシルセスキオキサンのシラノール基をシリル化して得られ、式〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m-k 〔CH3 Si(OSiR1 R2 R3 )O2/2 〕k〔上記式において、kはmより小さい正の数であり、(m-k)/(m+n)で表される残留シラノール基の量は0.12以下、R1 ,R2 及びR3 は置換もしくは非置換の1価の炭化水素基であり、そのうち1個以上が架橋性炭素-炭素二重結合を有する基である〕で示されるシリル化ポリメチルシルセスキオキサン。

IPC (3件)：

C08G 77/14 ,  C08G 77/06 ,  C08L 83/06

FI (3件)：

C08G 77/14 ,  C08G 77/06 ,  C08L 83/06