特許
J-GLOBAL ID:200903059134852097

化学的、機械的研磨の改善された方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-535075
公開番号(公開出願番号):特表平11-505181
出願日: 1996年05月17日
公開日(公表日): 1999年05月18日
要約:
【要約】半導体ウエハの面を研磨するための方法および装置が開示されている。ウエハは、ツーリングヘッドによって配置位置に固定され、研磨パッドと接触する。研磨パッドが固定して取り付けられるテーブルが設けられ、これらの両方が、研磨されているウエハの面に対して平行方向に移動する。コントローラは、所定の研磨パターンに従ってテーブルの動作を制御し、ウエハと研磨パッドの間の速度を一定に保つことができる。ツーリングヘッドは、円形プラテンと、ウエハの面と研磨面との係合によって生じるウエハへの横方向の力に耐える、プラテンの外端部の周りに周縁的に方向づけられる保定リングとを含む。調節可能な連結部が、プラテンおよびリングに取り付けられ、研磨の間ウエハの面に対するリングの相対的な高さを調節可能に位置づけし、かつ研磨の間保定リングの位置をきっちりと支持する機能を果たす。可撓性のディスクが、支持ポストとプラテンとの間に固定して取り付けられ、プラテンの面に実質的に平行に方向づけられる。可撓性のディスクは、支持ポストの軸に関するプラテンの回転を防ぎ、プラテンとポストとの間の力をプラテンの面に対して平行方向に伝達するように適合される。
請求項(抜粋):
研磨媒体を含有するように適合された平面研磨面を規定するテーブルと、 該研磨面に対してウエハを固定するように適合されたヘッドアセンブリであって、該ヘッドアセンブリは該ウエハと直交しかつ該ウエハを通る全ての軸に関する該ウエハの回転を防いでウエハを固定する手段を備える、ヘッドアセンブリと、 該ウエハと該研磨面との間の相対的な動作を、該研磨面の面内のいかなる方向へも提供する手段とを備える、ウエハ研磨装置。
IPC (3件):
B24B 37/04 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/04 G ,  H01L 21/304 621 D ,  H01L 21/304 622 R

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