特許

J-GLOBAL ID：200903059152507224

レーザー溶接方法及びその装置

発明者： 横谷 真一郎 ,  片山 聖二 ,  高木 茂男
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-013681
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317671
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 レーザー照射部にシールドガス成分の混入をなくして、酸化を防止し、安定な溶接を行うことができるレーザー溶接方法及びその装置を提供する。【解決手段】 レーザー溶接方法において、レーザーノズル25内のシールドガス4に旋回を付与し、レーザー照射部3Aとその近傍を負圧にし、プラズマ・プルームを吸い出して除去し、前記レーザー照射部3A内にシールドガス4が侵入しないようにし、しかも、周囲の大気11の侵入を防止し、酸化をも防止する。

請求項（抜粋）：

レーザー溶接方法において、レーザーノズル内のシールドガスに旋回を付与し、レーザー照射部と該レーザー照射部の近傍を負圧にし、プラズマ・プルームを吸い出して除去し、前記レーザー照射部内にシールドガスが侵入しないようにし、しかも、周囲の大気の侵入をも防止することを特徴とするレーザー溶接方法。

IPC (2件)：

B23K 26/14 ,  B23K 26/06

FI (2件)：

B23K 26/14 Z ,  B23K 26/06 A

Fターム (5件)：

4E068BA00 ,  4E068CG01 ,  4E068CH02 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レーザー処理ヘッド及びレーザー処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-213995   出願人：マクニール-ピーピーシー・インコーポレイテッド
• 特開昭56-151191