特許
J-GLOBAL ID：200903059175296123
基板表面の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118066
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291214
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 金属層の表面に形成された金属自然酸化膜を、金属層を腐食させずに選択的に除去し、清浄な金属層表面が得られるようにする。【構成】 無水硫酸の蒸気を基板の表面に供給し、基板上の金属層表面に形成された金属自然酸化膜に無水硫酸を反応させて硫酸塩を生成させる。基板表面に溶存酸素を殆んど含まない純水を供給し、純水で硫酸塩を溶解除去した後、不活性ガス雰囲気下で基板表面を乾燥させる。
請求項（抜粋）：
基板の表面に無水硫酸の蒸気を供給し、基板表面に薄膜状に被着した金属酸化物と無水硫酸とを反応させて硫酸塩を生成させる工程と、基板の表面に純水を供給し、基板表面に付着した硫酸塩を溶解させて基板表面から除去する工程と、硫酸塩が溶解除去された後の基板の表面を乾燥させる工程とからなる基板表面の洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
