特許

J-GLOBAL ID：200903059187391725

X線分析装置用のX線光学素子の製造方法

発明者： ハイスマ イアン ,  ダチャード ファン エンシュット ヨハネス フランシスカス マルティヌス ,  アデマ コルネリス ルーカス ,  ヘイスベルス イアン コルネリス ,  デ ボックス ピーター クラス
出願人/特許権者： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-532307
公開番号（公開出願番号）：特表平10-502741
出願日： 1996年04月10日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】X線光学素子の製造方法。この光学素子は形状記憶性を有する材料で構成する。この材料の転移温度以上の高温度において、本体を加圧して所望の第1の形状を形成する。本体表面は、例えば対数スパイラル又は別の湾曲形状に形成する。材料の転移温度以下の低い温度に冷却した後、本体に機械的に加工可能な第2の形状、好ましくは平坦な表面を形成する。この機械加工可能な第2の形状に多数の精密処理を行い、例えば表面粗さが0.5nmRMSまでポリシングを行う。この精密処理の後、本体を加熱して所望の第1の形状に戻し、冷却の後にその形状に維持する。所望の場合、本体には平坦な形状で研摩され所望の第1の形状に戻ったとき曲がった薄い表面層を形成する。この層は所望の機械的(研摩可能な)特性又はX線光学特性に応じて選択する。X線光学素子はX線のための多層ミラーを具え、波長分析用の高精度な結晶体を構成する。

請求項（抜粋）：

入射X線と相互作用する湾曲した表面の形態の境界表面を有するX線光学素子を製造するに際し、 所定の転移温度を有する形状記憶材料からX線光学素子の本体を形成する工程を具え、この形成工程が、 前記転移温度以上の温度で前記本体に所望の第1の形状を形成する工程と、 前記転移温度以下の温度で前記本体に機械加工可能な第2の形状を形成する工程と、 この機械加工可能な形状に研摩又はポリシングの形態の仕上げ処理を行う工程と、この処理は形成された支持材料の表面に対して行い、 研摩又はポリシング処理が終了した後、本体を前記転移温度以上の温度に加熱することにより本体を所望の第1の形状に戻す工程とを具えることを特徴とするX線光学素子の製造方法。