特許
J-GLOBAL ID：200903059202056709
光磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-133098
公開番号（公開出願番号）：特開平6-060449
出願日： 1992年05月26日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】従来より小さい記録磁界及び消去磁界においてデ-タの記録及び消去が可能な光磁気記録媒体を提供し、光磁気記録媒体に情報を記録、再生する光磁気ディスク装置の形状の小型化を図る。【構成】ポリカ-ボネイト基板1上に、少なくとも、SiNからなる第1の誘電体層2と、希土類金属と鉄族遷移金属との組合せによって作製されるTbFeCoTi合金膜から成る記録膜層4と、SiNからなる第2の誘電体層5と、AlTi合金からなる反射膜層6とが、この順に成膜され、記録膜層4形成前に、第1の誘電体層2をスパッタエッチングして作製された光磁気記録媒体であって、第1の誘電体層2のスパッタエッチング量が5オングストローム〜20オングストロームの範囲となるように構成されている。
請求項（抜粋）：
有機樹脂基板上に、少なくとも、SiNからなる第1の誘電体層と、希土類金属と鉄族遷移金属との組合せによって作製される非晶質磁性合金からなる記録膜層と、SiNからなる第2の誘電体層と、AlTi合金からなる反射膜層とを、この順に成膜された光磁気記録媒体の製造方法において、前記記録膜層形成前に、前記第1の誘電体層をスパッタエッチングすることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
引用特許：
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