特許
J-GLOBAL ID:200903059209832828
光学系基板への防曇膜とその成膜方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊沢 安夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-150167
公開番号(公開出願番号):特開2003-344604
出願日: 2002年05月24日
公開日(公表日): 2003年12月03日
要約:
【要約】【目的】 防曇効果や反射防止効果を持った各種の光学基板への防曇膜構成を提供し、その成膜方法を提唱すること。【構成】 プラスチック基板を用いた光学部品への反射防止膜であって、少なくとも第一層の素材がTiO2,SiO2,ZrO2,Cr2O3から選ばれる一種もしくは二種以上の合成された透明膜で構成され、かつその実質膜厚が10Å〜500Åの範囲にあり、第二層がMgF2又はSiO2で構成され、中心波長λ0とするとともに光学膜厚が1/8λ0〜1/2λ0で構成され、第三層がSiO2又はMgF2で構成され、その膜厚は50Å〜300Åの範囲にあってなる。
請求項(抜粋):
プラスチック基板を用いた光学部品への反射防止膜であって、少なくとも第一層の素材がTiO2,SiO2,ZrO2,Cr2O3から選ばれる一種もしくは二種以上の合成された透明膜で構成され、かつその実質膜厚が10Å〜500Åの範囲にあり、第二層がMgF2又はSiO2で構成され、中心波長λ0とするとともに光学膜厚が1/8λ0〜1/2λ0で構成され、第三層がSiO2又はMgF2で構成され、その膜厚は50Å〜300Åの範囲にあり、上記MgF2を0°C〜90°Cに保持された基板に成膜させることにより多孔性で吸湿性をもたせたことを特徴とする光学系基板への防曇膜とその成膜方法。
IPC (7件):
G02B 1/11
, B32B 9/00
, C03C 17/42
, C23C 14/06
, C23C 14/08
, G02B 1/10
, G02F 1/1335
FI (7件):
B32B 9/00 A
, C03C 17/42
, C23C 14/06 P
, C23C 14/08 E
, G02F 1/1335
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
Fターム (84件):
2H091FA37X
, 2H091FA50X
, 2H091FB06
, 2H091LA02
, 2H091LA12
, 2H091LA30
, 2H091MA10
, 2K009AA05
, 2K009AA06
, 2K009BB02
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009CC24
, 2K009DD02
, 2K009DD04
, 2K009DD07
, 2K009DD08
, 2K009EE02
, 4F100AA06B
, 4F100AA06C
, 4F100AA20A
, 4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AA21A
, 4F100AA22A
, 4F100AA27A
, 4F100AG00D
, 4F100AK01D
, 4F100AK25D
, 4F100AK25E
, 4F100AK45D
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA08
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100EH462
, 4F100EH662
, 4F100GB41
, 4F100GB90
, 4F100JA20A
, 4F100JA20B
, 4F100JA20C
, 4F100JD15E
, 4F100JG05A
, 4F100JG05B
, 4F100JG05C
, 4F100JL07
, 4F100JN01A
, 4F100JN06A
, 4F100JN06B
, 4F100JN06C
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4G059AA11
, 4G059AC21
, 4G059EA01
, 4G059EA04
, 4G059EA05
, 4G059EA09
, 4G059EB03
, 4G059EB04
, 4G059FA15
, 4G059FB06
, 4G059GA02
, 4G059GA04
, 4G059GA16
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA42
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BC00
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029CA05
, 4K029EA01
前のページに戻る