特許
J-GLOBAL ID：200903059214207850
不透明石英ガラス複合材の製造方法、前記方法による複合材、およびその利用法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
武田 正彦
, 滝口 昌司
, 中里 浩一
, 川崎 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-329314
公開番号（公開出願番号）：特開2004-131380
出願日： 2003年09月22日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】スリップキャスティング法による不透明石英ガラス複合材の製造方法は、既に知られており、それによると前記スリップは良好に分離した非晶質SiO2粒子ならびに粗大な石英ガラス顆粒を含有している。この時の乾燥時における収縮が引き起こす欠点を減少または解消する。【解決手段】液体中で非晶質SiO2顆粒の細粒化を行うことで、D50値が15μm以下かつD90値が50μm以下であることを特徴とする粒径および粒度分布を有する非晶質SiO2粒子を得、またpH値の低下により、少なくとも75重量%の固形分含有量を有する均質ベーススリップを製造し、また前記石英ガラス顆粒が前記均質ベーススリップに混合されることにより、少なくとも1.85g/cm3の密度である複合スリップを形成すべきことを提示する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
100μmオーダー以下のサイズの非晶質SiO2粒子ならびに100μmオーダー以上のサイズの石英ガラス顆粒を含有するスリップの製造、前記スリップの均質化、前記スリップの成形型への導入、および乾燥による多孔質素地の形成、および前記素地の焼結により不透明石英ガラス複合材を得る、不透明石英ガラス複合材の製造方法であって、
液体中で非晶質SiO2顆粒の細粒化を行うことで、D50値が15μm以下かつD90値が50μm以下であることを特徴とする粒径および粒度分布を有するSiO2粒子を得、またpH値の低下により、少なくとも75重量%の固形分含有量を有する均質ベーススリップを製造し、また前記石英ガラス顆粒が前記均質ベーススリップに混合されることにより、少なくとも1.85g/cm3の密度である複合スリップを形成することを特徴とする不透明石英ガラス複合材の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B20/00 C
, C03B19/06 A
