特許
J-GLOBAL ID：200903059222071712
オフセット印刷装置及びそれにより製造する高精細パターン基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028800
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225678
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 ブランケットに影響を与える因子を極力排除して、ブランケットを長寿命化し、高精細なオフセット印刷を可能とする。【解決手段】 ブランケット113の周辺にカバー120を設ける。カバー120は好ましくは遮光性であり、印刷時のみならず、印刷待機時やブランケット113のブラン胴110への装着時にも遮光することが出来る。
請求項（抜粋）：
凹版にインキを供給するディスペンサ装置、該凹版上の余分なインキをかきとるドクターブレード、該凹版上のインキパターンを受理してそれを被印刷物に転移するブランケットおよび該ブランケットを支持しているブラン胴とを具備するオフセット印刷装置であって、該ブランケットの周辺を覆うカバーをさらに具備することを特徴とするオフセット印刷装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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