特許

J-GLOBAL ID：200903059252719342

基板処理装置

発明者： 木瀬 一夫 ,  寺内 健一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-156073
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022128
出願日： 1994年07月07日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】 装置コスト及び設置スペースを増大させることのない簡単な構成で、処理用流体を個別に基板に供給して基板表面の多様な処理を可能にする表面処理装置を提供すること。【構成】 ガラス基板16を収容するスピンカップ32の蓋部材33は上下に往復動する。このスピンカップ32内のガラス基板16の表面上に異種のレジスト液を供給する一対のスリットノズル14a、14bは、それぞれ支持体39a、39bによって水平に支持され、ガイドレール37上を往復移動する。カバー47内には、モータ49a、49bに接続されたワイア59a、59bが掛け渡されて収容されている。モータ49aは、ワイア59aを介して、支持体39aをガラス基板16の対向する長辺16aに沿って水平移動させる。モータ49bは、ワイア59bを介して、支持体39bを長辺16aに沿って水平移動させる。

請求項（抜粋）：

基板の表面に処理用流体を順次供給して基板の表面に所定の処理を施す基板処理装置において、基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段に支持された基板の表面に向けて流体を供給するスリット状の流体吐出口を、それぞれ有する複数の流体供給手段と、各流体吐出口が前記基板支持手段に支持された基板の表面にそれぞれ平行に移動するように各流体供給手段を案内する単一の案内手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

G03F 7/16 502 ,  B05C 5/02 ,  B05C 11/08 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/30 502