特許
J-GLOBAL ID：200903059255741446
アジポニトリルの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-192937
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040627
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：
【要約】【構成】 本発明は、1-ホルミルオキシ-2-ニトロソシクロヘキサン、1-ヒドロキシ-2-ニトロソシクロヘキサン又は2-ヒドロキシシクロヘキサノンオキシムにギ酸及びヒドロキシルアミンを反応させることを特徴とするアジポニトリルの製造法に関する。【効果】 本発明により、ヘキサメチレンジアミンの製造原料として有用なアジポニトリルを高收率でしかも安全かつ容易に製造することができる。
請求項（抜粋）：
1-ホルミルオキシ-2-ニトロソシクロヘキサン又は1-ヒドロキシ-2-ニトロソシクロヘキサンにギ酸及びヒドロキシルアミンを反応させることを特徴とするアジポニトリルの製造法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (2件)
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特公昭42-013090
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特開昭58-172357
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