特許

J-GLOBAL ID：200903059267576173

ウェハ洗浄装置

発明者： 小林 正典 ,  山崎 健 ,  早見 由香 ,  市橋 精二
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-240777
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089889
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 本発明はウェハ洗浄装置に関し、洗浄効果の向上を実現することを目的とする。【構成】 洗浄水スプレーノズルユニット23,24を、キャリア11を掛止して搬送するハンガ21,22の垂直腕21b,22bに取り付けて構成する。ノズルユニット23,24は、キャリア11内のウェハ10に接近して位置する。洗浄水スプレー25,26のウェハ10の主面10a上の水圧は高いように構成する。

請求項（抜粋）：

洗浄水のスプレー(25,26)を噴射するノズル(23b,24b)が複数並んだ洗浄水スプレーノズルユニット(23,24)を、ウェハ(10)を収容したキャリア(11)を掛止して搬送するハンガ(21,22,40)に取り付けた構成としたことを特徴とするウェハ洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02