特許

J-GLOBAL ID：200903059274044950

膜パターンの形成方法

発明者： 森 省誠 ,  寺田 匡宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-004390
公開番号（公開出願番号）：特開2009-168913
出願日： 2008年01月11日
公開日（公表日）： 2009年07月30日
要約：

【課題】本発明は、現像液と剥離液との溶質を同一材料とすることを目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板上に水溶性の感光性樹脂を形成する工程と、感光性樹脂を露光する工程と、感光性樹脂を現像液を用いて現像する現像工程と、現像工程の後に基板上に残った感光性樹脂を剥離液を用いて剥離する剥離工程と、膜パターンの材料を堆積する堆積工程と、を有する膜パターンの形成方法であって、剥離液と現像液とが同一の溶質からなり、剥離液の溶質の濃度が、現像液の溶質の濃度よりも高いことを特徴とする膜パターンの形成方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上に水溶性の感光性樹脂を形成する工程と、前記感光性樹脂を露光する工程と、前記感光性樹脂を現像液を用いて現像する現像工程と、前記現像工程の後に前記基板上に残った前記感光性樹脂を剥離液を用いて剥離する剥離工程と、膜パターンの材料を堆積する堆積工程と、を有する膜パターンの形成方法であって、 前記剥離液と前記現像液とが同一の溶質からなり、前記剥離液の溶質の濃度が、前記現像液の溶質の濃度よりも高いことを特徴とする膜パターンの形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/32

FI (5件)：

G03F7/42 ,  H01L21/30 569E ,  H01L21/30 572B ,  G03F7/40 ,  G03F7/32

Fターム (14件)：

2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA17 ,  2H096HA23 ,  2H096HA28 ,  2H096JA04 ,  2H096LA03 ,  5F046LA12 ,  5F046LA18 ,  5F046MA02 ,  5F046MA06 ,  5F046MA18

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ピロケース
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-282967   出願人：パラマウントベッド株式会社