特許
J-GLOBAL ID：200903059275261688
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351708
公開番号（公開出願番号）：特開平5-143988
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 平滑なディスク基板上に磁化容易軸方向を円周方向とした磁気記録層をマスクなしでスパッタ法にて形成する。【構成】 ガラス基板上にターゲット2を有するDCマグネトロンスパッタ装置で成膜するにあたり、ガラス基板1は25°Cに維持し、ガラス基板1とターゲット2との距離は60mmとし、ターゲット2に形成されるエロージョン3は内径約70mm外径110mmとし、そして、マグネトロンスパッタ装置内を4×10-7Torrまで排気した後、Arガスを5×10-3Torrになるまで導入し、下地層としてCrを成膜し、続いて磁気記録層としてCoNi18Cr9Pt5を成膜する。
請求項（抜粋）：
基板上に下地層及び磁気記録層を環状マグネトロンスパッタ法にて形成するようにした磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層は500Å以上で10,000Å以下の厚さまで形成し、ターゲットと基板との距離はターゲットのエロージョンより中心軸仮想線を超えて飛来してくるスパッタ粒子の入射角が30°以上65°以下となる距離とし、スパッタガス圧は1.0mTorr(ミリトール)以上で10.0mTorr以下とし、基板温度は250°C以下を維持して行なうようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4件)：
G11B 5/85
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, H01F 41/18
