特許
J-GLOBAL ID：200903059277952556
薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-057882
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222110
出願日： 1991年02月28日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】〔目的〕 多大な時間と手間を要する真空反応器内の洗浄工程を省略し、生産性を向上させ、形成される薄膜の品質を高めることを目的とする。〔構成〕 真空容器内に収まる交換可能なカートリッジ容器を有し、そのカートリッジ容器内において部品表面上への薄膜形成を行う。
請求項（抜粋）：
真空反応器と該真空反応器内に収まる交換可能なカートリッジ容器を有し、そのカートリッジ容器内において部品表面上への薄膜形成を行うことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
C08F 2/52 MDY
, C08F 2/00 MCT
, C08G 85/00 NUY
