特許

J-GLOBAL ID：200903059281337491

広いゴム領域を有する熱可塑性ポリウレタン樹脂及びその製造法

発明者： 田川 浩行 ,  岡部 憲昭
出願人/特許権者： 保土谷化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-243465
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041161
出願日： 1994年09月13日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性に優れ、かつ低温特性に優れた熱可塑性ポリウレタン、すなわち広いゴム領域を有する熱可塑性ポリウレタン樹脂を提供する。【構成】 側鎖に低級アルキル基を有するアルキレン鎖を分子内にもつ特定の低融点ポリアルキレンエーテルジオールと有機ジイソシアネート及び、スピロ環を含む特定のジヒドロキシ化合物から構成される熱可塑性ポリウレタン樹脂

請求項（抜粋）：

一般式(1)-CONH-X-NHC00-Y-O-の繰り返し単位(A)と、(一般式(1)中、Xは、パラフェニレンジイソシアネート、2,4ートルエンジイソシアネート、2,6ートルエンジイソシアネート、4,4’ージフェニルメタンジイソシアネート、1,5ーナフタレンジイソシアネート、3,3’ージメチルジフェニルー4,4ージイソシアネートよりなる群から選ばれる芳香族ジイソシアネートからイソシアネート基が除かれた二価の残基であり、Yは主鎖がーCH2CH2CH2CH2Oーで表される基とーCHR1CHR2CHR3CHR4Oーで表される基(R1、R2、R3、R4のうちいずれか1個が低級アルキル基であり残る3個が水素である)とで構成されている分子量500〜10000のポリアルキレンエーテルジオールからヒドロキシル基が除かれた二価の残基を示す)一般式(2)-CONH-X-NHCOO-Z-O-の繰り返し単位(B)(一般式(2)中、Xは、パラフェニレンジイソシアネート、2,4ートルエンジイソシアネート、2,6ートルエンジイソシアネート、4,4’ージフェニルメタンジイソシアネート、1,5ーナフタレンジイソシアネート、3,3’ージメチルジフェニルー4,4ージイソシアネートよりなる群から選ばれる芳香族ジイソシアネートからイソシアネート基が除かれた二価の残基であり、Zは、3,9ービス(1,1ージメチルー2ーヒドロキシエチル)ー2,4,8,10ーテトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンからヒドロキシル基が除かれた二価の残基を示す。)との結合からなり、繰り返し単位(A)と(B)の配列がランダムであって、(A)/(B)の割合が0.1〜2.0である30000〜500000の平均分子量を有する広いゴム領域を有するポリウレタン樹脂。

IPC (3件)：

C08G 18/66 NEX ,  C08G 18/48 NDZ ,  C08G 18/76 NFH