特許

J-GLOBAL ID：200903059281471465

排ガス浄化方法

発明者： 菅野 周一 ,  東山 和寿
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066877
公開番号（公開出願番号）：特開2007-237134
出願日： 2006年03月13日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】高濃度のO2 が存在する雰囲気下で、排ガス中のNOxを高効率でN2 に還元し、かつ、N2への選択性を向上する触媒を使用する際に、その触媒性能が低下するのを抑制することである。【解決手段】排ガス中のNOxを浄化する方法において、内燃機関からの排ガスに含まれる炭化水素を、COを還元剤としてNOxを浄化する触媒の前段で除去する。炭化水素の除去は、燃焼させ、または収着材で収着させ、分離装置で分離させる等の手段により可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくともCO,O2 、及びNOxを含有する排ガス中のNOxを浄化する方法において、 該排ガス中の炭化水素を除去する工程と、前記炭化水素を除去した後の排ガスを、COを還元剤としてNOxを還元する反応について触媒能を有するNOx浄化触媒に接触させる工程とを有することを特徴とするNOx浄化方法。

IPC (8件)：

B01D 53/94 ,  B01D 53/72 ,  B01J 29/035 ,  B01J 31/20 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/24 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10

FI (11件)：

B01D53/36 102D ,  B01D53/34 120D ,  B01J29/035 A ,  B01J31/20 A ,  B01D53/36 101A ,  F01N3/08 B ,  F01N3/08 A ,  F01N3/24 E ,  F01N3/28 301E ,  F01N3/28 301C ,  F01N3/10 A

Fターム (112件)：

3G091AA02 ,  3G091AA12 ,  3G091AA17 ,  3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB04 ,  3G091AB10 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA39 ,  3G091CA03 ,  3G091CB02 ,  3G091DB10 ,  3G091EA33 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01Y ,  3G091GB03Y ,  3G091GB05Y ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB09Y ,  3G091GB17X ,  3G091HA10 ,  3G091HA12 ,  3G091HA20 ,  4D002AA12 ,  4D002AA40 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA20 ,  4D002CA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA21 ,  4D002DA45 ,  4D002DA55 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA04 ,  4D002EA05 ,  4D002EA08 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002HA01 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB07 ,  4D048AC02 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA08Y ,  4D048BA11X ,  4D048BA16Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA26Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36X ,  4D048BA37X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048BA45X ,  4D048BB01 ,  4D048BB17 ,  4D048CD01 ,  4D048CD08 ,  4D048CD10 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA05A ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA26B ,  4G169BB04B ,  4G169BC29A ,  4G169BC31A ,  4G169BC35A ,  4G169BC54A ,  4G169BC59A ,  4G169BC60A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169BE42B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y ,  4G169EC09X ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB64 ,  4G169ZA36A ,  4G169ZA36B

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 窒素酸化物浄化法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113332   出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (3件)

• 排ガス浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-073501   出願人：株式会社次世代排ガス触媒研究所
• 窒素酸化物還元方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-173219   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 排ガスの浄化装置及び排ガスの浄化方法,浄化触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-063479   出願人：バブコック日立株式会社