特許
J-GLOBAL ID：200903059285296633
荷電粒子ビーム装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-195211
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064163
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 軸上収差を極めて小さくできる重畳場レンズを用いた荷電粒子ビーム装置を実現する。【構成】 光軸上もしくは近軸の一次電子ビームEBが対物レンズ1の近くに到達すると、まず電極6と7で構成される電場の加速部と、電極7と8で構成される電場の減速部のレンズ作用により、電子ビームEBは軸方向に偏向を受ける。更に、電子ビームの加速電圧より多少小さな電圧を試料2に印加することにより、静電ポテンシャルが軸に沿って強減衰し、電子ビームの減速により球面収差Csと色収差Ccの軸上収差が低減される。また、図1の構成で対物レンズ1の外側磁極3の先端と内側磁極4の先端との間の軸方向のギャップαは、試料に対して静電ポテンシャルEと磁気ポテンシャルBのピークが互いに干渉し、電子ビームが軸方向に最も集束するように調整されている。
請求項（抜粋）：
磁界型レンズと非対称型アインツェルレンズである静電型レンズとより成る重畳場レンズと、試料に電圧を印加するための電源とを備えた荷電粒子ビーム装置において、前記非対称アインツェルレンズは加速型レンズとして用いられており、前記磁界型レンズの外側磁極と内側磁極との間のギャップは磁界型レンズで発生する磁気ポテンシャルと静電型レンズで発生する静電ポテンシャルが試料に照射される荷電粒子ビームを最適に集束するように調整されていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
IPC (2件)：
H01J 37/153
, H01J 37/145
