特許
J-GLOBAL ID：200903059290387809
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-057087
公開番号（公開出願番号）：特開平7-272999
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 マスクに撓みがあるか又はマスクが傾斜しているような場合でも、プレート側での焦点ずれを低減させて露光を行う。【構成】 投射光学系8からマスク21上に斜めにスリットパターン像を投影し、マスク21からの反射光を用いてリレー光学系10を介してプレート23上にスリットパターン像を斜めに投影し、プレート23からの反射光を用いて再結像光学系11を介して2次元イメージセンサ12上にスリットパターン像を再結像する。2次元イメージセンサ12上の結像位置が所定の位置になるように、マスク21又はプレート23のZ方向の位置を制御する。
請求項（抜粋）：
第1の基板のパターンを投影光学系を介して第2の基板上に投影する投影露光装置において、前記第1又は第2の基板の一方の基板上に所定形状のパターンを投影するパターン投射光学系と、該パターン投射光学系から射出されて前記一方の基板により反射された光を集光し、前記第1又は第2の基板の他方の基板上に前記所定形状のパターンの像を形成するリレー光学系と、該リレー光学系から射出されて前記他方の基板により反射された光を集光し、前記所定形状のパターンの像を再結像する再結像光学系と、該再結像光学系により再結像された像の位置を検出する像位置検出手段と、該像位置検出手段により検出された像の位置が所定の位置になるように、前記第1及び第2の基板の少なくとも1枚の基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を調整する位置調整手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/207
