特許
J-GLOBAL ID：200903059296808067
6-ヒドロキシクロマン化合物と3-アリールベンゾフラノン化合物を含有する有機高分子材料用安定剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高島 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113378
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355656
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【解決手段】 6-ヒドロキシクロマン化合物、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、および3-アリールベンゾフラノン系安定剤を含有し、これらの総量に対して、6-ヒドロキシクロマン化合物を0.5〜15重量%の割合で含有する有機高分子材料用安定剤組成物、ならびに有機高分子に上記の安定剤組成物を配合してなる有機高分子材料組成物。【効果】 本発明の安定剤組成物を合成樹脂などの有機高分子材料の安定剤として使用することにより、加工安定性に優れた、有用な有機高分子材料組成物を得ることができる。
請求項（抜粋）：
(a):一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数1〜18のアルキル基または炭素数2〜18のアルケニル基を示し、R2は炭素数1〜5のアルキル基を示し、R3、R4、およびR5は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R6は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。)により表される化合物、(b):フェノール系酸化防止剤、(c):リン系酸化防止剤、および(d):3-アリールベンゾフラノン系安定剤を含有し、成分(a)と成分(b)と成分(c)と成分(d)との総量に対して、成分(a)を0.5〜15重量%、成分(b)と成分(c)と成分(d)との総量を99.5〜85重量%の割合で含有する有機高分子材料用安定剤組成物。
IPC (17件)：
C08L101/00
, C08K 5/13
, C08K 5/1535
, C08K 5/1545
, C08K 5/49
, C08L 23/00
, C08L 23/04
, C08L 23/08
, C08L 23/10
, C08L 23/16
, C09K 15/06
, C09K 15/08
, C09K 15/12
, C09K 15/18
, C09K 15/20
, C09K 15/30
, C09K 15/32
C08L101/00
, C08K 5/13
, C08K 5/1535
, C08K 5/1545
, C08K 5/49
, C08L 23/00
, C08L 23/04
, C08L 23/08
, C08L 23/10
, C08L 23/16
, C09K 15/06
, C09K 15/08
, C09K 15/12
, C09K 15/18
, C09K 15/20
, C09K 15/30
, C09K 15/32
, C09K 15/32 C
