特許
J-GLOBAL ID:200903059334703819

ホットプレートユニット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安富 康男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-139602
公開番号(公開出願番号):特開2002-334828
出願日: 2001年05月10日
公開日(公表日): 2002年11月22日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウエハ上に塗布されたレジスト用の樹脂膜を均一に加熱することが可能であり、その結果、マスクが載置された樹脂膜に露光、現像処理を施し、続いて、均一に加熱することにより設定通りの形状の開口部を有するレジスト膜を形成することができ、その後、前記開口部に金属を充填することより、半導体ウエハ上に設定通りの形状の導体回路を形成することが可能なホットプレートユニットを提供すること。【解決手段】 ヒータと、被加熱物を上下動するための可動手段とを含んで構成されることを特徴とするホットプレートユニット。
請求項(抜粋):
ヒータと、被加熱物を上下動するための可動手段とを含んで構成されることを特徴とするホットプレートユニット。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/68 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68
FI (5件):
H01L 21/68 N ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68 ,  H01L 21/30 567
Fターム (38件):
3K034AA10 ,  3K034AA21 ,  3K034AA34 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC04 ,  3K034CA14 ,  3K034CA22 ,  3K034DA04 ,  3K034HA10 ,  3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB02 ,  3K092QB32 ,  3K092QB44 ,  3K092QB62 ,  3K092QB75 ,  3K092QB76 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF19 ,  3K092RF27 ,  3K092SS02 ,  3K092UA05 ,  3K092VV22 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA37 ,  5F031HA58 ,  5F031JA08 ,  5F031JA46 ,  5F031JA51 ,  5F031LA11 ,  5F031PA04 ,  5F031PA11 ,  5F046KA04 ,  5F046KA10

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