特許

J-GLOBAL ID：200903059341500184

浄化装置

発明者： 有川 智明 ,  野尻 雅弘 ,  土井 正明
出願人/特許権者： 第一環境株式会社
代理人 (1件)： 松永 宣行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-122821
公開番号（公開出願番号）：特開平9-285796
出願日： 1996年04月22日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 廃棄処理すべき固形物の量を少なくすることにある。【解決手段】 浄化装置は、処理すべき汚水が流入する第1の処理槽と、該第1の処理槽内の汚水に酸素を供給すべく前記第1の処理槽の底部に配置された第1の散気手段と、前記第1の処理槽内の汚水を排出する第1の排出手段と、該排出手段により排出される汚水を受け、固形物を汚水から分離する分離手段と、該分離手段により分離された固形物を受ける第2の処理槽と、該第2の処理槽内の汚泥に酸素を供給すべく前記第2の処理槽の底部に配置された第2の散気手段と、第2の処理槽内の汚泥を第1の処理槽に戻す第2の排出手段とを含む。

請求項（抜粋）：

処理すべき汚水が流入する第1の処理槽と、該第1の処理槽内の汚水に酸素を供給すべく前記第1の処理槽の底部に配置された第1の散気手段と、前記第1の処理槽内の汚水を排出する第1の排出手段と、該排出手段により排出される汚水を受け、固形物を汚水から分離する分離手段と、該分離手段により分離された固形物を受ける第2の処理槽と、該第2の処理槽内の汚泥に酸素を供給すべく前記第2の処理槽の底部に配置された第2の散気手段と、第2の処理槽内の汚泥を第1の処理槽に戻す第2の排出手段とを含む、浄化装置。

IPC (3件)：

C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 1/24 ZAB

FI (5件)：

C02F 3/12 ZAB S ,  C02F 3/12 H ,  C02F 3/12 D ,  C02F 3/12 M ,  C02F 1/24 ZAB A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭52-022367
  
• 特開昭55-114393