特許

J-GLOBAL ID：200903059346979992

レーザ逆コンプトン発生装置

発明者： 丸下 元治
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-031164
公開番号（公開出願番号）：特開2003-232892
出願日： 2002年02月07日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】 複数のビームラインを設置可能なレーザ逆コンプトン発生装置を提供する。【解決手段】 電子ビームeの軌道を逐次曲げる複数の偏向電磁石11,12,13,14,15と、偏向電磁石11,13,15の電子ビームe進行方向上流側に配置され且つレーザビームLを電子ビームeへ向けて反射するミラー16,17,18とを備え、電子ビームeに対してミラー16,17,18が反射するレーザビームLを衝突させて、偏向電磁石11,13,15の電子ビームe進行方向上流側で、それぞれ逆コンプトン光Xを発生させるようにする。

請求項（抜粋）：

電子ビームの軌道を逐次曲げる複数の偏向電磁石と、2以上の所定の偏向電磁石の電子ビーム進行方向上流側に配置され且つレーザビームを電子ビーム進行方向上流側へ向けて反射する光学素子とを備えてなることを特徴とするレーザ逆コンプトン発生装置。

IPC (5件)：

G21K 1/00 ,  G21K 5/02 ,  H01S 3/30 ,  H05G 2/00 ,  H05H 13/04

FI (5件)：

G21K 1/00 X ,  G21K 5/02 X ,  H01S 3/30 Z ,  H05H 13/04 U ,  H05G 1/00 L

Fターム (8件)：

2G085AA03 ,  2G085AA13 ,  2G085BA14 ,  2G085DB10 ,  4C092AA03 ,  4C092AB30 ,  5F072RR07 ,  5F072YY11