特許

J-GLOBAL ID：200903059347498181

触媒層の製造方法

発明者： 戸塚 和秀
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109413
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299119
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】電解質膜に触媒層を接合する方法は種々あるが、いずれも良好な接合体が得られず、また、触媒層と電解質膜の均一性が低下した。【解決手段】炭素数が4以下のアルコールを含む電解質膜の片面もしくは両面に、触媒と電解質を含む触媒層が形成された触媒体を使用する。

請求項（抜粋）：

電解質膜に炭素数が4以下のアルコールを含浸し、次いで前記電解質膜の片面もしくは両面に、触媒と電解質を含む触媒層を形成することを特徴とする、触媒層-電解質接合体の製造方法。

IPC (3件)：

H01M 8/02 ,  H01M 4/88 ,  H01M 8/10

FI (3件)：

H01M 8/02 E ,  H01M 4/88 K ,  H01M 8/10

Fターム (17件)：

5H018AA06 ,  5H018AA07 ,  5H018AS01 ,  5H018BB05 ,  5H018BB08 ,  5H018CC06 ,  5H018DD08 ,  5H018EE03 ,  5H018EE05 ,  5H018EE18 ,  5H026AA03 ,  5H026AA06 ,  5H026CC03 ,  5H026CX05 ,  5H026EE02 ,  5H026EE05 ,  5H026EE19