特許
J-GLOBAL ID:200903059350452109
光学素子及びその製造方法及び露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-088519
公開番号(公開出願番号):特開2001-141902
出願日: 2000年03月24日
公開日(公表日): 2001年05月25日
要約:
【要約】【課題】 汚れ難い光学素子を得る。【手段】 本発明の光学素子は、基板と、該基板上に形成された少なくとも内部に微細空孔を有する光学素子膜と、二酸化珪素を主成分とし前記光学素子膜への物質の付着を防止する前記基板上の付着防止膜を有する。
請求項(抜粋):
基板と、該基板上に形成され少なくとも内部に微細空孔を有する光学素子膜と、二酸化けい素を主成分とし前記光学素子膜への物質の付着を防止する前記基板上の付着防止膜を有することを特徴とする光学素子。
IPC (4件):
G02B 1/10
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 502
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 502
, G02B 1/10 Z
, H01L 21/30 515 D
Fターム (20件):
2H097CA13
, 2H097FA09
, 2H097GB01
, 2H097GB02
, 2H097LA17
, 2K009BB01
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009CC42
, 2K009DD03
, 2K009DD04
, 2K009DD07
, 2K009DD09
, 2K009EE05
, 5F046BA04
, 5F046CA07
, 5F046CB12
, 5F046CB23
, 5F046CB25
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